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純水設備反滲透膜污染與清洗方案!

發布時間: 2018/10/18

  反滲透膜污染與清洗方案:

  一、反滲透膜組件的污染物:

  運行一段時期后,反滲透膜元件將被暫?;蚬┧到y中可能存在的不溶性物質污染。更常見的污染物是碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積有機或生物沉積。

  污染的性質和速率與供水條件有關。污染發展緩慢。如果不采取早期措施,膜組件的性能將在較短的時間內受損。

  對系統的整體性能的定期檢測是確定膜元件污染的一個好方法,不同的污染物會造成不同程度的損壞膜元件的性能。

  二、反滲透膜組件污染物的去除

  污染物的去除可通過化學清洗和物理清洗,有時通過改變操作條件。純水設備在一般情況下,當發生下列情況之一時,應進行清洗。

  1、在正常壓力下,如果產品的水流量下降到正常值的10至15%。

  2、為了維持正常的產品水流量、給水壓力增加10~15%溫度修正后。

  3、產品水質降低10~15%。鹽滲透率提高了10~15%。

  4、將壓力增加10到15%

  5、RO段之間壓差明顯增加(可能沒有儀表來監控這個標志)。

  三、反滲透膜元件的常見污染物及其去除方法:

  1、碳酸鈣垢

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  在阻垢劑添加系統出現故障時或加酸系統出現而導致給水PH升高,那么碳酸鈣就有可能沉積,出來,應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的發生,以防止生長的晶體對膜表面產生損傷,如早期發現碳酸鈣垢,可以用降低給水PH至3.0~5.0之間運行1~2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢,則應采用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。

  注:應確保任何清洗液的PH不要低于2.0,盃則可能會RO膜元件造成損害,特別是在溫度較高時更應注意,更高的PH不應高于11.0。

  查使用氨水來提高PH,使用硫酸或鹽酸來降低PH值。

  2、硫酸鈣垢

  清洗液是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的更佳方法。

  3、金屬氧化物垢

  可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。

  4、硅垢

  對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專業水處理的清洗方法才能將他們去除,有關的詳細方法請與水處理專業公司聯系。

  5、有機沉積物

  有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除,為了防止再繁殖,可使用經認可的殺菌溶液在系統中循環、浸泡,一般需較長時間浸泡才能有效,如反滲透裝置停用三天時,更好采用消毒處理,請與水處理專業公司會商以確定適宜的殺菌劑。

  6、清洗液

  清洗反滲透膜元件時建議采用水處理專用的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的,對分析結果的詳細分析比較,可保證選擇更佳的清洗劑及清洗方法,應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出更佳的清洗方法提供依據。

  本文由純水設備整理,此文不代表本站觀點

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